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手机真空镀膜机|磁控溅射镀膜设备的主要用途
(1)各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。
(2)装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。
(3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机
(4)化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。
(5) 在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。
(6)在机械加工行业中，表面功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展，能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能，从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。
磁控溅射除上述已被大量应用的领域，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。